シンガポール知的財産庁（IPOS）は、2017年10月30日、特許法及び特許規則改正を施行した。
これに伴い、特許出願のための審査ガイドラインをウェブサイト上に公開している。
主な改正点は、グレースピリオドの拡大、補充審査ルートの廃止等である。
また、登録意匠法及びそれに対応する下位法の改正法も同日付で施行された。
主な改正点は、意匠の保護範囲の拡大、グレースピリオドの拡大と延長、多意匠一出願の許可等である。
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