2021年1月7日、韓国特許庁は、商標審査基準を改正したと発表した。
立体・音・色彩商標のような新しいタイプの商標に対する審査の正確性向上が期待される。
また、同時に改正された「商標法施行規則」（2021年2月1日施行）により、建物の内・外観を実線（保護を受けようとする部分）と点線（保護から除外される部分、実際の商標使用により変更可能）で表現できるようになるとともに、1つの図面だけでも立体商標および位置商標の特徴を表現できれば出願ができるようになった。
日本貿易振興機構（JETRO）
https://www.jetro.go.jp/world/asia/kr/ip/ipnews/2021/210105.html
